На 9 септември, по локално време, извршниот директор на Интел, Кисинџер, објави дека ќе инвестира 20 милијарди долари за изградба на нова голема фабрика за нафора во Охајо, САД.Ова е дел од стратегијата на Intel IDM 2.0.Целиот инвестициски план е дури 100 милијарди долари.Се очекува новата фабрика масовно да се произведува во 2025 година.
Откако стана извршен директор на Интел во февруари минатата година, Кисинџер енергично промовираше изградба на фабрики во Соединетите Американски Држави и ширум светот, од кои најмалку 40 милијарди американски долари се инвестирани во САД.Минатата година, тој инвестираше 20 милијарди американски долари во Аризона за изградба на фабрика за нафора.Овој пат, тој исто така инвестираше 20 милијарди американски долари во Охајо, а изгради и нова фабрика за заптивање и тестирање во Ново Мексико.
Интел инвестира уште 20 милијарди долари за изградба на две фабрики за чипови.Се враќа кралот на технологијата „1,8 nm“.
Фабриката Интел е исто така голема фабрика за полупроводнички чипови новоизградена во Соединетите Држави по усвојувањето на сметката за субвенција на чипови од 52,8 милијарди американски долари.Поради оваа причина, на церемонијата на отпочнување присуствуваше и претседателот на Соединетите Држави, како и гувернерот на Охајо и други високи функционери на локалните оддели.
Интел инвестира уште 20 милијарди долари за изградба на две фабрики за чипови.Се враќа кралот на технологијата „1,8 nm“.
Основата за производство на чипови на Интел ќе биде составена од две фабрики за нафора, кои можат да сместат до осум фабрики и поддржувачки системи за еколошка поддршка.Зафаќа површина од близу 1000 хектари, односно 4 квадратни километри.Ќе создаде 3000 високо платени работни места, 7000 градежни работни места и десетици илјади работни места за соработка во синџирот на снабдување.
Овие две фабрики за нафора се очекува да произведуваат масовно во 2025 година. Интел не го спомена конкретно нивото на процесот на фабриката, но Интел претходно рече дека ќе го совлада процесот на процесорот од 5 генерации во рок од 4 години, а масовно ќе го произведе 20а и 18а процеси со две генерации во 2024 година. Затоа, фабриката овде треба да го произведува и процесот 18а до тоа време.
20a и 18a се првите процеси на чип во светот што го достигнале нивото на EMI, што е еквивалентно на процесите од 2nm и 1,8nm на пријателите.Тие, исто така, ќе лансираат две интел технологии за црна технологија, ribbon FET и powervia.
Според Интел, ribbonfet е имплементација на Интел на портата насекаде околу транзисторите.Тоа ќе стане првата сосема нова архитектура на транзистор откако компанијата првпат го лансираше FinFET во 2011 година. Оваа технологија ја забрзува брзината на префрлување на транзисторот и ја постигнува истата струја на возење како структурата со повеќе перки, но зафаќа помалку простор.
Powervia е единствена на Intel и прва во индустријата мрежа за пренос на енергија, која го оптимизира преносот на сигналот со елиминирање на потребата од напојување и
Време на објавување: Сеп-12-2022 година